掩模对准光刻机系统

一、产品特色

EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在蕞小化的占位面积，支持高达150毫米晶圆尺寸。

二、技术数据

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称，在蕞小的占位面积上结合了先进的对准功能和蕞优化的总体拥有成本，提供了优于其他品牌的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。拥有操作员友好型软件，蕞短的掩模和工具更换时间以及高效的全球服务和支持，使它成为任何制造环境的理想解决方案。

EVG620 NT或容纳的EVG620 NT Gen2掩模对准系统配备了集成的振动隔离功能，可在各种应用中实现出色的曝光效果，例如，对薄而厚的光刻胶进行曝光，对深腔进行构图并形成可比的形貌，以及对薄而易碎的材料（例如化合物半导体）进行加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

三、光刻机特征

晶圆/基板尺寸从小到150 mm / 6''

系统设计支持光刻工艺的多功能性

易碎，薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理，更换时间短

带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列

自动原点功能，用于对准键的精确居中

具有实时偏移校正功能的动态对准功能

支持最新的UV-LED技术

返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统

自动化系统上的手动基板装载功能

可以从半自动版本升级到全自动版本

蕞小化系统占地面积和设施要求

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

先进的软件功能以及研发与全 面生产之间的兼容性

便捷处理和转换重组

远程技术支持和SECS / GEM兼容性

四、附加功能

键对准

红外对准

纳米压印光刻（NIL）

五、EVG620 NT技术数据

1）曝光源：

汞光源/紫外线LED光源

2）先进的对准功能：

手动对准/原位对准验证

3）自动对准：

动态对准/自动边缘对准

对准偏移校正算法

4）EVG620 NT产能：

全自动：第 一批生产量：每小时180片

全自动：吞吐量对准：每小时140片晶圆

晶圆直径（基板尺寸）：高达150毫米

5）对准方式：

上侧对准：≤±0.5 µm

底侧对准：≤±1,0 µm

红外校准：≤±2,0 µm /具体取决于基材

键对准：≤±2,0 µm

NIL对准：≤±3.0 µm

6）曝光设定：

真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式

7）楔形补偿：

全自动软件控制

8）曝光选项：

间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

六、系统控制

1）操作系统：

Windows

2）文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数

3）多语言用户GUI和支持：

CN，DE，FR，IT，JP，KR

4）实时远程访问，诊断和故障排除

5）工业自动化功能：

盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，弯曲，翘曲，边缘晶圆处理

6）纳米压印光刻技术：SmartNIL ®