纳米压印光刻系统

简要描述：纳米压印支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。

产品型号：EVG610
厂商性质：代理商
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更新时间：2024-03-19
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详细介绍

该设备支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括印章的释放机制。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。

纳米压印机技术数据：

1) 晶圆直径（基板尺寸）

2) 标准光刻：碎片蕞大150毫米

3) 柔软的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片

4) 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

5) 支持流程：柔软的UV-NIL

6) 曝光源：汞光源或紫外线LED光源

7) 自动分离功能：不支持

8) 工作印章制作：外部

纳米压印机特征：

1) 顶部和底部对准能力

2) 高精度对准台

3) 自动楔形误差补偿机制

4) 电动和配方控制的曝光间隙

5) 支持新的UV-LED技术

6) 蕞小化系统占地面积和设施要求

7) 分步流程指导

8) 远程技术支持

9) 多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

10) 敏捷处理和光刻工艺之间的转换

11) 台式或带防震花岗岩台的单机版

纳米压印机主要应用：

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。

附加功能：

1) 键对准

2) 红外对中

3) 纳米压印光刻

4) 微接触印刷

纳米压印工艺结果：

图1 微镜头

图2 纳米压印结果（100纳米分辨率）

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