椭偏仪通过测量光在介质表面反射前后偏振态变化，获得材料的光学常数和结构信息，具有测量精度高、非接触、无破坏且不需要真空等优点。椭偏仪的选购指南：1、根据研究或测试的材料特性来确定光谱范围，进一步选择适合光源的椭偏仪。对于透明材料，考虑关心的折射率光谱区域;对于短波吸收、长波透明材料，如果关心吸收区域折射率及膜厚可扩展到红外透明区域来先确定薄膜厚度，然后求解折射率。2、入射角方式选择。椭偏仪多角度测量可以增加可靠性，但不是总有必要。多角度Z适用于以下几种场合：多层膜结构、吸收膜...

椭偏仪/椭圆偏振仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。现在已被广泛应用于材料、物理、化学、生物、医药等领域的研究、开发和制造过程中。基本原理：椭偏仪利用偏振光测量薄膜或界面参量，通过测量被测样品反射(或透射)光线偏振状态的变化来获得样品参量。椭偏法测量具有如下特点：1.能测量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2个数量级。2.是一种无损测量，不必特别制备样品，也不损坏样品，比其它精密方法：如称重法、定量化学分析法简便。3.可同时测量膜的厚度...

光学轮廓仪是用于对各种精密器件表面进行纳米级测量的仪器，它是以白光干涉技术为原理，光源发出的光经过扩束准直后经分光棱镜后分成两束，一束经被测表面反射回来，另外一束光经参考镜反射，两束反射光最终汇聚并发生干涉，显微镜将被测表面的形貌特征转化为干涉条纹信号，通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌。Filmetrics3D光学轮廓仪具有3倍於于其成本仪器的次纳米级垂直分辨率,Profilm3D同样使用了现今高分辨率之光学轮廓仪的测量技术包含垂直扫描干涉（VSI）及相移干涉（PSI...

硅片电阻率测试模组是一款测量圆柱晶体硅电阻率测试仪器，可测量硅芯，检磷棒，检硼棒，籽晶等，由于仪器大大消除了珀尔帖效应、塞贝克效应、少子注入效应等负效应的影响，因此测试精度大大提高，量程实现了电阻率从10-4欧姆.厘米到10+4欧姆.厘米（可扩展）的测试范围。因此仪器具有测量精度高、稳定性好、测量范围广、结构紧凑、使用方便等特点。是西门子法、硅烷法等工艺生产原生多晶硅料的企业、物理提纯生产多晶硅料生产企业、光伏及半导体材料厂、器件厂、科研部门、高等院校以及需要超大量程测试电阻...

纳米压印机具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到最大150毫米。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。纳米压印机提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。对于压印工艺，本产品允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径1...