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利用光学形貌仪优化光学元件制造过程
2024-02-23

光学元件是现代光学系统中的重要组成部分,其制造过程需要高度的精度和准确性。然而,由于制造过程中各种因素的影响,光学元件的表面形貌可能会出现各种缺陷,如凹坑、凸起、波纹等,这些缺陷会严重影响光学元件的性能和使用寿命。因此,优化光学元件的制造过...

  • 2020-09-21

    HerzTS主动隔振台介绍:在21世纪纳米技术(即先进的半导体代表相关的信息技术,基因疗法等生命科学相关技术,原子或分子处理如MEMS和工程技术等新材料生产),振动、噪声、电磁领域、热、湿度、干扰等是测量环境的抑制因素。在纳米技术中,为了获得可靠的结果,使用充气被动隔振台无法隔离低频振动,此时需要主动隔离。主动式隔振系统“TS系列”将作为21世纪纳米技术的隔振技术基础。它将有助于发展目前的技术和测量、创新和发展未知的技术。HerzTS主动隔振台特点:1、在全部的6个自由度范围...

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