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EVG620 NT-掩模对准光刻机系统EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在小化的占位面积，支持高达150毫米晶圆尺寸。
更新时间：
2023-12-14
型号：
厂商性质：
代理商
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新型IQ Aligner NT具有高强度和高均匀度的曝光光学器件，新的晶圆处理硬件，可实现全局多点对准的200mm和300mm晶圆全覆盖范围以及优化的工具软件，从而使生产率提高了2倍与EVG上一代IQ Aligner相比，对准精度提高了2倍。该系统超越了晶圆凸块和其他后端光刻应用的蕞苛刻要求，同时与竞争系统相比，拥有成本降低了30％。
更新时间：
2024-01-04
型号：
IQ Aligner NT
厂商性质：
代理商
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更新时间：
2023-12-14
型号：
厂商性质：
代理商
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1346
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更新时间：
2023-12-14
型号：
厂商性质：
代理商
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1900
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更新时间：
2023-12-14
型号：
厂商性质：
代理商
浏览量：
1313
研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工。$nEVG101光刻胶匀胶机在单室设计上可以满足研发工作，与EVG的自动化系统*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圆，可配置为旋涂或喷涂和显影。
更新时间：
2023-12-19
型号：
EVG101
厂商性质：
代理商
浏览量：
2159
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